| 发明名称 | 偏光膜及其制法、偏光膜、偏光板、光学膜和图像显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明的偏光膜的制造方法，在包括溶胀处理工序和继该溶胀处理工序之后的染色处理工序的制造工序中，对聚乙烯醇系膜等树脂膜实施单轴拉伸处理，由此来制造偏光膜，该偏光膜的制造方法的特征在于，在所述溶胀处理工序中，包括将树脂膜顺次浸渍在至少两个以上的溶胀处理槽内的浴液中的步骤，至少将位于从前级侧起算第N处的溶胀处理槽的浴温，设定成比位于第(N+M)处的溶胀处理槽的浴温高3℃以上(N、M都是1以上的规定整数)。 | ||
| 申请公布号 | CN100426020C | 申请公布日期 | 2008.10.15 |
| 申请号 | CN200580003246.3 | 申请日期 | 2005.07.25 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 增田友昭;土本一喜;藤田裕 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01);B29C55/02(2006.01) | 主分类号 | G02B5/30(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1. 一种偏光膜的制造方法，在包含溶胀处理工序和继该溶胀处理工序之后的染色处理工序的制造工序中，对树脂膜实施单轴拉伸处理，由此来制造偏光膜，该偏光膜的制造方法的特征在于，在所述溶胀处理工序中，包括将树脂膜顺次浸渍在至少两个的溶胀处理槽内的浴液中的步骤，至少将位于从前级侧起算第N处的溶胀处理槽的浴温，设定成比位于第(N+M)处的溶胀处理槽的浴温高3℃以上，其中，N、M都是1以上的规定整数。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||