发明名称 清洁溅镀机的方法
摘要 一种清洁溅镀机的方法。溅镀机包含反应室、溅镀阴极、基座与载具。溅镀阴极设置于反应室内,且其具有溅镀靶。基座置于反应室内并相对应于溅镀靶,用以承载基板。载具用于将基板传送进入反应室。本方法包含提供玻璃以外材质的监控基板,其具有粗糙面,接着利用载具将此监控基板传送进反应室,并置于基座上,进行溅镀工艺,然后用载具将监控基板移出反应室,回收处理监控基板。
申请公布号 CN100425729C 申请公布日期 2008.10.15
申请号 CN200610081716.4 申请日期 2006.05.10
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 蔡吉雄;王国庭;陈伯威
分类号 C23C14/34(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1.一种清洁溅镀机的方法,该溅镀机至少包含反应室、溅镀阴极、基座以及载具,该溅镀阴极设置于该反应室内,且其正面具有溅镀靶,该基座置于该反应室内并相对应于该溅镀靶,用以承载基板,该载具用于将该基板传送进入该反应室,该方法包含下列步骤:提供监控基板,其具有粗糙面;利用该载具将该监控基板传送进入该反应室,并置于该基座上;进行至少一溅镀工艺;利用该载具将该监控基板从该反应室中移出;以及对该监控基板进行回收处理。
地址 中国台湾新竹市