| 摘要 |
L'invention concerne un procédé de réalisation d'un dépôt (14) non continu d'un premier matériau sur un substrat (2), comportant :a) la formation d'un masque sur ce substrat, par formation d'au moins deux couches (4, 6) de masque, et gravure d'au moins une cavité (10', 10', 12, 12') dans ces couches, cette cavité ayant un profil tel que d'un dépôt, réalisé sur le substrat, à travers les cavités du masque, présente au moins une discontinuité sur ledit profil de la cavité,b) le dépôt du premier matériau sur le substrat, à travers les cavités du masque, ce dépôt comportant au moins une discontinuité sur le profil de ladite cavité,c) l'élimination du masque.
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