POLISHING PART FOR CMP EQUIPMENT,申请号KR20030097934-传众专利搜索

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法人/股东/高管

发明名称	POLISHING PART FOR CMP EQUIPMENT
摘要
申请公布号	KR100862852(B1)	申请公布日期	2008.10.09
申请号	KR20030097934	申请日期	2003.12.26
申请人		发明人
分类号	H01L21/304	主分类号	H01L21/304
代理机构		代理人
主权项
地址

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