发明名称 曝光绘图装置
摘要 [课题]提供一种曝光绘图装置,搭载着少数光源和复数个作为空间光调变元件的DMD元件,确保高的运转率,且可确认此光源的光量。[解决方式]曝光绘图装置(100)系包括:光源(10),照射包含紫外线的光;有孔构件(20),设有用于将光源分离成第一光束和第二光束的第一开口窗(21)及第二开口窗(21)、以及光量检测用的检测窗(29);第一及第二光学元件(22),将通过第一开口窗及第二开口窗的第一光束及第二光束分别反射;第一光量感测器(SS11),配置在第一及第二光学元件的附近,检测出来自光源通过检测窗的光量。
申请公布号 TW200839463 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW096148901 申请日期 2007.12.20
申请人 奥克制作所股份有限公司 发明人 野中纯;李德;小林义则
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本