光阻材料及图型之形成方法

摘要

本发明系有关一种光阻材料，其特征为含有１种或２种以上(A)作为硷性成分之具有氧化胺构造的化合物。本发明之效果系可提供藉由在光阻材料中配合作为硷性成分之具有氧化胺构造的化合物，具有高解像性，且可大幅改善因显像后线图型的图型形状不佳所导致的图型倒塌情形，具有来自图型形状之优异蚀刻耐性。特别是适合作为超LSI制造用、制造光罩用之微细图型形成材料的具有氧化胺构造之化合物、及使用它之光阻材料，特别是化学放大型正型光阻材料。