发明名称 |
电容耦合型等离子体反应室、其气体喷头之结构、制造方法与翻新再利用的方法 |
摘要 |
一种电容耦合型等离子体反应室、其气体喷头之结构、制造方法与翻新再利用的方法。所述气体喷头由具有低电阻值的主体层及涂覆于其一表面上的碳化矽涂层组成。所述气体喷头能使射频能量高效地电容性耦合到等离子体中。本发明亦提供一种气体喷头的制作方法,可以显着减少微尘粒子产生。此外,本发明另提供一种翻新和再利用气体喷头的方法,能够显着地节省使用者的使用成本。 |
申请公布号 |
TW200839829 |
申请公布日期 |
2008.10.01 |
申请号 |
TW096109631 |
申请日期 |
2007.03.21 |
申请人 |
中微半导体设备(亚洲)有限公司 |
发明人 |
倪图强;吴万俊 |
分类号 |
H01J37/32(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/205(2006.01);C23C16/52(2006.01) |
主分类号 |
H01J37/32(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
黄志扬 |
主权项 |
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地址 |
开曼群岛 |