发明名称 经电镀之自约束非等向的锗奈米结构
摘要 提供一种由锗所构成的奈米结构,包含直径小于一微米的线,宽度小于一微米的墙,且与基板连接并自基板往外延伸;配制方法亦一同提供。
申请公布号 TW200839850 申请公布日期 2008.10.01
申请号 TW097100120 申请日期 2008.01.02
申请人 万国商业机器公司 发明人 盖依 柯汉;哈里克亚 戴林恩伊;黄强;路邦米尔T 罗曼奇
分类号 H01L21/20(2006.01) 主分类号 H01L21/20(2006.01)
代理机构 代理人 蔡玉玲
主权项
地址 美国