双重金属镶嵌结构及其制造方法

摘要

一种双重金属镶嵌结构，此双重金属镶嵌结构包括基底、介电层、硬掩模层、接触结构与导线。介电层位于基底上，硬掩模层位于介电层上。接触结构位于介电层中，且接触结构的水平截面具有不对称的圆化轮廓。导线位于硬掩模层与介电层中，且位于接触结构上并与其电连接，且导线具有一侧向隆起，其位于接触结构边缘上。

主权项

1. 一种双重金属镶嵌结构的制造方法，包括：于一基底上依序形成一介电层与一硬掩模层；于该硬掩模层中形成一沟槽图案；于该基底上方形成一图案化的光致抗蚀剂层，且该图案化的光致抗蚀剂层具有一接触窗开口图案，该接触窗开口图案中暴露出部分的该硬掩模层；进行一削角步骤，移除该接触窗开口图案中所暴露出该硬掩模层的顶部边角；以该图案化的光致抗蚀剂层为掩模，移除部分该介电层，以于该介电层中形成一开口；移除该图案化的光致抗蚀剂层；以该硬掩模层为掩模，移除部分该介电层至暴露出该基底表面，以形成一接触窗开口，且同时于该接触窗开口上形成一沟槽；以及于该沟槽与该接触窗开口中形成一导体层。