纳米压印设备及方法

摘要

本发明涉及一种与微米或纳米级的光刻结构相关联的设备及方法。根据本发明实施例的纳米压印设备包括用于将微米或纳米尺寸的图案转印到待图案化的基板上的两个可转动安装辊。第一可转动安装辊具有图案化圆周表面，用于通过使该图案化圆周表面与可变形基板相接触而将图案从第一可转动安装辊转印到该基板上。第二可转动安装辊具有与第一可转动安装辊的图案化表面面对的基本平滑的圆周表面。另外，第二可转动安装辊与第一可转动安装辊可转动地结合，以便第一和第二辊同步转动。基板可在第一和第二辊之间移动，使得当这些辊相对于彼此转动时，第一可转动安装辊的图案化表面与基板接触，从而该图案从图案化表面转印到基板上。

主权项

1.一种纳米压印设备(1)，包括：第一可转动安装辊(10)，具有图案化圆周表面(11)，用于通过使所述图案化表面(11)与可变形基板(20)相接触而将图案从所述第一可转动安装辊(10)转印到所述基板(20)上；第二可转动安装辊(30)，具有与所述第一可转动安装辊(10)的所述图案化表面(11)面对的基本平滑的圆周表面(31)，所述第二可转动安装辊(30)与所述第一可转动安装辊(10)可转动地结合，以便所述辊(10、30)同步转动；其中，所述基板(20)可在所述辊(10、30)之间移动，使得当所述辊(10、30)相对于彼此转动时，所述第一可转动安装辊(10)的所述图案化表面(11)与所述基板(20)接触，从而所述图案从所述图案化表面(11)转印到所述基板(20)上。