一种稳定的无电流的含水的酸性的镀金池,用以解析黄金及其他镀金之用

摘要

本发明系关于一种稳定的，无电流的，含水的，酸性的，镀金池。其中含有阴离子四氰化金－(Ⅲ)，一错合剂或多种错合剂的混合物。又此项镀金池可用于将金镀在非贵重金属或其合金上。

主权项

1.一种稳定、无电流、含水、酸性金浴,该浴合有择自四气基金(Ⅲ)酸、四氰基金(Ⅲ)铵盐或四氰基金(Ⅲ)硷金属盐(某中硷金属系锂、钠、钾、铷或铯)之四氰基金(Ⅲ)阴离子,一种错合剂或多种错合剂混合物及一种择自矿酸或有机酸之酸或多种酸混合物,其特征在于错合剂含有至少-种式I化合物或至少一种式Ⅱ化合物其中A=H,-CH3,-(CH2)n-PO(OH2),B=H,或(CH2)n-COOH,且n=0或1-52.根据申请专利范围第1项之金浴,其含有N,N-双(羧基伸甲基)-1-胺基乙烷-1,1-二磷酸及/或2-膦酸基丁烷-1,2,4-三羧酸作为错合剂。3.根据申请专利范围第1或2项之金浴,其特征为错合剂或错合剂混合物之整体浓度为1-100g/l。4.根据申请专利范围第1或2项之金浴,其系用于将金镀于