| 发明名称 | 处理模块的水印 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于对处理模块(105)施加水印的方法，所述处理模块(105)被配置为对电子信号进行处理从而形成处理后信号，该方法包括步骤：施加被安排来引起对所述处理后信号的显著更改的第一功能算子(104)，所述第一算子(104)被嵌入在所述处理模块(105)中；以及安排被配置为与第一功能算子(104)配合以使得所述更改被基本上消除的第二功能算子(109)。第二算子(109)适于作为可提取的标识符来用作所述处理模块(105)的水印。该方法的优点在于由于第一和第二算子被实现为功能处理模块，传统的调试工具不能被用于攻击该处理模块。 | ||
| 申请公布号 | CN101273365A | 申请公布日期 | 2008.09.24 |
| 申请号 | CN200680035901.8 | 申请日期 | 2006.09.25 |
| 申请人 | NXP股份有限公司 | 发明人 | 菲利普·图文 |
| 分类号 | G06F21/00(2006.01) | 主分类号 | G06F21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人 | 陈源;张天舒 |
| 主权项 | 1.一种用于对处理模块(105)施加水印的方法，所述处理模块被配置为对电子信号进行处理从而形成处理后信号，该方法包括步骤：施加被安排来引起对所述处理后信号的显著更改的第一功能算子(104)，所述第一算子(104)被嵌入在所述处理模块(105)中；以及安排第二功能算子(109)，其被配置为与所述第一功能算子(104)配合以使得所述更改被基本上消除，其中所述第二算子(109)的至少一部分适于作为可提取的标识符来用作所述处理模块的水印。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||