发明名称 Method for thermal process of SOI wafer
摘要
申请公布号 KR100857386(B1) 申请公布日期 2008.09.05
申请号 KR20060138044 申请日期 2006.12.29
申请人 发明人
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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