| 发明名称 | 电子元件、显示装置、密封结构及制作电子元件的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及电子元件、显示装置、密封结构及制作电子元件的方法。其中所述密封结构具有阻挡隔膜，采用这种密封结构，可以在保证足以抵御水和氧气的阻挡特性以避免对发光层损坏的同时，减小显示装置的整体厚度。该密封结构包括，用于密封基底2上电子元件部分3的多层树脂隔膜14b，该隔膜由交替地在基底2上沉积平化树脂层14c和阻挡层14d形成。平化树脂层形成于围绕电子元件部分3的阻断区14a之内。还公开了一种具有该密封结构的显示装置、一种具有该密封结构的电子设备以及一种用于该显示装置的制作方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101257096A | 申请公布日期 | 2008.09.03 |
| 申请号 | CN200810081803.9 | 申请日期 | 2003.01.15 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 今村阳一 |
| 分类号 | H01L51/52(2006.01);H01L51/56(2006.01);H01L27/32(2006.01);H01L21/82(2006.01);H05B33/04(2006.01);H05B33/10(2006.01) | 主分类号 | H01L51/52(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 刘小峰 |
| 主权项 | 1.一种用于在基底上形成或安装的电子元件部分的带有阻挡隔膜的密封结构，包括：沉积于电子元件部分上的多层的密封隔膜，由覆盖至少一个平化树脂层和至少一个阻挡层构成；在基底上形成的闭环阻断区以围绕整个电子元件部分或部分电子元件部分，同时围绕平化树脂层。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||