发明名称 微细图案的形成方法
摘要 【课题】本发明系提供一种微细图案的形成方法,其藉由对光阻图案施以特定的加热处理而使光阻图案的间隔缩小化,而能使图案尺寸的控制性优良,同时具备良好的轮廓,且相较于知的图案微细化方法可增大其缩小量。【解决手段】一种微细图案的形成方法,其包含将被膜形成用组成物涂布于具有光阻图案之基板上,以形成被膜之被膜形成步骤;将此被膜进行加热处理之第一加热处理步骤;除去此第一加热处理步骤后的被膜之被膜除去步骤;以及将此被膜除去步骤后的缩小后的图案,进行加热处理之第二加热处理步骤。
申请公布号 TW200813661 申请公布日期 2008.03.16
申请号 TW096126037 申请日期 2007.07.17
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 菅田祥树;上野直久
分类号 G03F7/40(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/40(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 日本