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经营范围
发明名称
a fabrication method of a capacitor for semiconductor device
摘要
申请公布号
KR100853092(B1)
申请公布日期
2008.08.19
申请号
KR20060082440
申请日期
2006.08.29
申请人
发明人
分类号
H01L21/8242;H01L27/108
主分类号
H01L21/8242
代理机构
代理人
主权项
地址
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