发明名称 形成具高介电常数之结构之方法、具高介电常数之结构、包含该结构之电容器及形成该电容器之方法
摘要 本发明揭示一种形成一诸如层之介电结构之方法。该方法包括自一高k材料之复数个部分形成一高k结构。该高k材料之该复数个部分中之每一者系藉由沈积该高k材料之复数个单层及退火该高k材料而形成。该高k材料可为一钙钛矿型材料,其包含(但不限于)钛酸锶。亦揭示一介电结构、一并入一介电结构之电容器及一形成一电容器之方法。
申请公布号 TW200834821 申请公布日期 2008.08.16
申请号 TW096143559 申请日期 2007.11.16
申请人 美光科技公司 发明人 巴哈斯卡 斯田尼法珊;约翰A 史密斯
分类号 H01L21/8242(2006.01) 主分类号 H01L21/8242(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国