发明名称 非挥发性记忆胞的制作方法
摘要 本发明提供一种制作非挥发性记忆胞之方法,首先提供一基底,其中形成有一沟渠,且沟渠侧壁依序形成有一穿遂氧化层以及一浮置闸极。然后于沟渠内形成一控制闸极,再进行一高密度电浆沉积制程,于控制闸极之顶部表面形成一高密度电浆氧化层。
申请公布号 TW200834823 申请公布日期 2008.08.16
申请号 TW096105810 申请日期 2007.02.15
申请人 力晶半导体股份有限公司 发明人 吕威伯;陈大川
分类号 H01L21/8247(2006.01);H01L29/788(2006.01) 主分类号 H01L21/8247(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪
主权项
地址 新竹市科学园区力行一路12号