发明名称 | 非挥发性记忆胞的制作方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种制作非挥发性记忆胞之方法,首先提供一基底,其中形成有一沟渠,且沟渠侧壁依序形成有一穿遂氧化层以及一浮置闸极。然后于沟渠内形成一控制闸极,再进行一高密度电浆沉积制程,于控制闸极之顶部表面形成一高密度电浆氧化层。 | ||
申请公布号 | TW200834823 | 申请公布日期 | 2008.08.16 |
申请号 | TW096105810 | 申请日期 | 2007.02.15 |
申请人 | 力晶半导体股份有限公司 | 发明人 | 吕威伯;陈大川 |
分类号 | H01L21/8247(2006.01);H01L29/788(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8247(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市科学园区力行一路12号 |