保护膜形成用材料、光阻图案的形成方法及保护膜洗净除去液

摘要

提供一种保护膜形成用材料、光阻图案的形成方法、及保护膜洗净除去液，该保护膜系层积于光阻膜上之保护膜，能够抑制来自光阻膜的放气对曝光装置的污染，能够形成对环境的影响小、具有高拨水性、且不容易与光阻膜产生混合之高解像的光阻图案。保护膜形成用材料系含有(a)非极性聚合物、及(b)非极性溶剂之保护膜形成用材料。又，提供一种使用该保护膜形成用材料之光阻图案的形成方法、及在该光阻图案的形成方法中所使用的保护膜洗净除去液。