| 摘要 |
一种高分子化合物，其为含有通式（1a）、（1b）及（1c）所表示之重复单位，重量平均分子量为1,000~500,000之范围，#P 096137144P01.bmp（R#sP!1a#eP!、R#sP!1b#eP!、R#sP!1c#eP!为H、F、烷基或氟化烷基。R#sP!2a#eP!为H、-R#sP!3#eP!-CO#sB!2#eB!R#sP!7#eP!或-R#sP!3#eP!-OR#sP!7#eP!。R#sP!2c#eP!为氟化烷基。R#sP!3#eP!为可含有氟之2价之有机基。R#sP!4#eP!为伸甲基或氧原子。R#sP!5#eP!为H、甲基或三氟甲基。R#sP!6#eP!为氟化烷基。R#sP!7#eP!为H、烷基、氟化烷基、酸不稳定基或密着性基。0≦a＜1、0＜b＜1、0≦c＜1、0＜a+b+c≦1）。本发明之光阻材料，因含有导入有具有含氟酯之内酯单位的硷可溶性高分子化合物，故于显影后可大幅抑制表面接触角，于浸液曝光时可抑制水之浸透，而可实现良好之浸液微影蚀刻。 |
