发明名称 表面保护薄膜及附有表面保护薄膜之光学薄膜
摘要 本发明系提供一种光学用表面保护薄膜、及使用其之附有表面保护薄膜之光学薄膜,该光学用表面保护薄膜系亦可以贴附保护薄膜之状态检查棱镜片等具有细微凹凸之黏附体之外观,不会对上述黏附体带来光学性不良影响,且接着可靠性优异者。本发明系关于一种光学用表面保护薄膜1,其特征在于:其系于基材层10之单面积层有黏着剂层12之光学用表面保护薄膜1,上述基材层10之黏着剂层12侧之面的表面算术平均粗糙度(Ra#sB!2#eB!)为0.65 μm以下,上述基材层10之另一侧之面的表面算术平均粗糙度(Ra#sB!1#eB!)为0.6 μm以上。
申请公布号 TW200834123 申请公布日期 2008.08.16
申请号 TW096138397 申请日期 2007.10.15
申请人 日东电工股份有限公司 发明人 由藤拓三;高田信一;山本充志;奥村和人
分类号 G02B5/02(2006.01);C09J7/02(2006.01) 主分类号 G02B5/02(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本