发明名称 |
一种皮带输送平面转弯系统 |
摘要 |
本发明涉及一种皮带输送平面转弯系统,包括直输送段和转弯输送段,在转弯输送段处设有气室,气室的上端设有气室盘槽,所述转弯输送段气室盘槽内侧的开孔率为气室盘槽外侧开孔率的1.5-3倍。普通皮带输送在转弯时,输送带内侧受到挤压应力,具有跑直的特性,容易造成气室与输送带间的摩擦。本发明通过对盘槽开孔的合理布置,加大了气室内曲面的气量,很好的控制、稳定侧向弯道力,平衡离心力,很好的实现输送带的转弯过程。 |
申请公布号 |
CN101239675A |
申请公布日期 |
2008.08.13 |
申请号 |
CN200810101210.4 |
申请日期 |
2008.02.29 |
申请人 |
张开元 |
发明人 |
张开元 |
分类号 |
B65G15/60(2006.01);B65G15/02(2006.01) |
主分类号 |
B65G15/60(2006.01) |
代理机构 |
北京轻创知识产权代理有限公司 |
代理人 |
杨立 |
主权项 |
1、一种皮带输送平面转弯系统,包括直输送段和转弯输送段,在转弯输送段处设有气室,气室的上端设有气室盘槽,其特征在于:所述转弯输送段气室盘槽内侧的开孔率为气室盘槽外侧开孔率的1.5-3倍。 |
地址 |
100036北京市海淀区西八里庄路69号人民政协报大厦10层 |