发明名称 |
CVD气化器、溶液气化式CVD装置及CVD用气化方法 |
摘要 |
本发明提供一种CVD用气化器、溶液气化式CVD装置以及CVD用气化方法,能够抑制溶液配管等的阻塞而长时间连续的使用。本发明的CVD用气化器,包括复数个原料溶液用配管1、2,以相互隔离的方式供给复数个原料溶液;一载气用配管3,以包覆着上述复数个原料溶液用配管1、2的方式设置着,并且用来使加压的载气分别在上述复数个原料溶液用配管1、2各自的外侧流动;一细孔,设置于上述载气用配管3的前端,由上述原料溶液用配管1、2的前端被隔开;一气化管13,连接上述载气用配管3的前端,并且藉由上述细孔,连系着该载气用配管3的内部;一洗净机构,用来洗净该载气用配管3的前端、该细孔以及该气化管13之中至少一者;以及一加热装置(加热器),用来加热上述气化管13。 |
申请公布号 |
CN100411102C |
申请公布日期 |
2008.08.13 |
申请号 |
CN200480000763.0 |
申请日期 |
2004.05.17 |
申请人 |
尤泰克株式会社;矢元久良 |
发明人 |
矢元久良 |
分类号 |
H01L21/205(2006.01);H01L21/31(2006.01);C23C16/448(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
高龙鑫;颜薇 |
主权项 |
1. 一种CVD用气化器,其特征在于包括:复数个原料溶液用配管,以相互隔离的方式供给复数个原料溶液;一载气用配管,以包覆着上述复数个原料溶液用配管的方式设置着,并且用来使加压的载气分别在上述复数个原料溶液用配管各自的外侧流动;一细孔,设置于上述载气用配管的前端,由上述第1原料溶液用配管的前端被隔开;一气化管,连接上述载气用配管的前端,并且通过上述细孔,联系着该载气用配管的内部;以及一洗净机构,用来洗净该载气用配管的前端、该细孔以及该气化管中的至少一个;以及一加热装置,加热上述气化管。 |
地址 |
日本国千叶县 |