发明名称 |
微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法 |
摘要 |
微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法,涉及一种微波介质陶瓷元器件。提供一种可微细调节,具有速度快、成本低、效率高、可连续监控等优点的微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法。用网络分析仪测试出微波陶瓷的微波介电性能,打开激光仪,选择微调刻蚀的形状和大小,设置加工参数,如速度、电流、频率、加工方式、加工次数;将激光束对准待刻蚀的微波陶瓷,聚焦,微调刻蚀;用网络分析仪测试经过微调刻蚀的微波陶瓷的微波介电性能,观察并比较微调刻蚀前后的微波陶瓷的谐振频率f<SUB>c</SUB>、品质因子Q值等,根据预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数,判断是否需继续微调刻蚀,若需要,重复上述步骤,至达到预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数。 |
申请公布号 |
CN101234913A |
申请公布日期 |
2008.08.06 |
申请号 |
CN200810070675.8 |
申请日期 |
2008.02.27 |
申请人 |
厦门大学 |
发明人 |
熊兆贤;郑建森;肖芬;杨国山;薛昊 |
分类号 |
C04B41/91(2006.01);B23K26/36(2006.01);B23K26/40(2006.01) |
主分类号 |
C04B41/91(2006.01) |
代理机构 |
厦门南强之路专利事务所 |
代理人 |
马应森 |
主权项 |
1.微波陶瓷元器件制作的激光微调刻蚀方法,其特征在于包括以下步骤:1)用网络分析仪测试出微波陶瓷的微波介电性能参数;2)打开激光仪,选择微调刻蚀的形状和大小,并设置好有关加工参数;3)将激光仪的激光束对准待刻蚀的微波陶瓷,聚焦完毕后,即可微调刻蚀;4)用网络分析仪测试经过微调刻蚀的微波陶瓷的微波介电性能参数;5)观察并比较微调刻蚀前后的微波陶瓷的微波介电性能参数数据,根据预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数,判断是否需要继续微调刻蚀,若需要继续微调刻蚀,重复步骤2~5,至达到预先设定的微波陶瓷的微波介电性能参数。 |
地址 |
361005福建省厦门市思明南路422号 |