| 摘要 |
本发明揭示将蒸汽提供至一放置于一高真空腔室中之蒸汽接收装置。作为一实例，一离子束植入器具有一在一高真空腔室内之可移除高压离子源，及一蒸汽传送系统，其用以将蒸汽传送至该离子源且并不会干扰到为了维护之该离子源之移除。为了将蒸汽传送至一蒸汽接收装置，诸如处于真空状态的高压离子源，一流动界面装置呈一热传导阀块之形式。藉由各别安装及移除运动，该界面装置之一传送延伸部分在具有该可移除蒸汽接收装置的该高真空腔室内自动连接及断开。在一离子植入器中，以一非干扰之方式将该流动界面装置或阀块及反应性清洁气体源安装于使该离子源与该真空外壳绝缘之电绝缘套管上，且可在不干扰该流动界面装置的情况下移除该离子源。在该流动界面装置中提供用于固体材料之多个汽化器、用于反应性气体清洁之装备及用于控制流量的装备。 |
