控制叠置误差之系统及其方法

摘要

本发明揭露一种控制积体电路叠置误差之系统及其方法。本发明之方法包括：在第二道光罩之后，使用扫瞄式电子显微镜量测第二道光罩与第一道光罩间的电路叠置偏移；及将此一叠置误差与资料库中此一积体电路的资讯相比较。本发明之方法亦包括：以一控制机制来分析此叠置偏移并将结果在使用第三道光罩之前，前馈给积体电路制程进行误差修正。