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发明名称 Lithografische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE602005007563(D1) 申请公布日期 2008.07.31
申请号 DE200560007563T 申请日期 2005.12.15
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 TINNEMANS, PATRICIUS A. J.;BASELMANS, JOHANNES J. M.;JORRITSMA, LAURENTIUS C.
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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