| 发明名称 | 涂布膜的干燥方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种涂布膜的干燥方法，其目的在于可以稳定制造厚度的偏差少的涂布膜。所以，是在移动的长尺状支撑体上涂布涂布液而形成的涂布膜的干燥方法，沿着所述涂布液的涂敷装置的下流侧中的所述长尺状支撑体的移动路径，配置板宽为所述长尺状支撑体的宽度以上的板，沿着所述移动路径使刚刚利用所述涂敷装置形成涂布膜之后的长尺状支撑体移动，并使所述涂布膜与所述板的板面相隔规定的间隙且对向，由此在所述间隙中进行所述涂布膜的干燥的至少一部分。 | ||
| 申请公布号 | CN101229543A | 申请公布日期 | 2008.07.30 |
| 申请号 | CN200710197159.7 | 申请日期 | 2004.03.04 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 小松原诚;井上龙一;太田美绘;土本一喜;近藤诚司;增田友昭 |
| 分类号 | B05D3/00(2006.01);B05D3/02(2006.01);B05D3/06(2006.01) | 主分类号 | B05D3/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种涂布膜的干燥方法，其特征在于，是在移动的长尺状支撑体上涂布涂布液而形成的涂布膜的干燥方法，沿着所述涂布液的涂敷装置的下流侧中的所述长尺状支撑体的移动路径，配置板宽为所述长尺状支撑体的宽度以上的板，沿着所述移动路径使刚刚利用所述涂敷装置形成涂布膜之后的长尺状支撑体移动，并使所述涂布膜与所述板的板面相隔规定的间隙且对向，由此在所述间隙中进行所述涂布膜的干燥的至少一部分。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||