发明名称 |
一种级联的法布里-玻罗光学共振腔及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种级联的法布里-玻罗光学共振腔及其制备方法,该材料是在K9玻璃或石英玻璃片衬底上用磁控溅射技术,在高纯氩气氛中逐次生长出包含五个不同区域的由银膜和二氧化硅膜构成的级联法布里-玻罗光学共振腔;用该技术制备时膜厚控制精确,而且材料中间不存在液体层,该材料厚度超薄(总厚度小于380纳米)且结构稳定,而且容易控制,并具有在波长为400纳米至850纳米的范围内获得五个共振模式,并且这五个共振模式的频率互不关联,每个模式可独立调控的功能。 |
申请公布号 |
CN101231441A |
申请公布日期 |
2008.07.30 |
申请号 |
CN200810020210.1 |
申请日期 |
2008.02.27 |
申请人 |
南京大学 |
发明人 |
彭茹雯;李德;曹鲁帅;吴昕;高峰;林涛;王牧 |
分类号 |
G02F1/21(2006.01);C23C14/35(2006.01);C23C14/14(2006.01);C23C14/54(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/21(2006.01) |
代理机构 |
南京苏高专利商标事务所 |
代理人 |
阙如生 |
主权项 |
1.一种级联的法布里-玻罗光学共振腔,由衬底和金属材料Ag以及介电材料SiO2 构成,其特征在于将衬底材料平均分为五个区域,在每个区域逐次生长第一层材料Ag膜,然后生长第二层材料SiO2膜,再生长第三层材料Ag膜。每个区域中第一层和第三层Ag膜厚度为33-43纳米,但第二层SiO2膜厚度不同。具体地说,在第一区,第二层材料SiO2膜厚度为276-296纳米;在第二区,第二层材料SiO2膜厚度为130-150纳米;在第三区,第二层材料SiO2膜厚度为160-180纳米);在第四区,第二层材料SiO2膜厚度为190-210纳米;在第五区,第二层材料SiO2膜厚度为214-234纳米。这种级联法布里-玻罗光学共振腔总厚度小于380纳米(不包括衬底),中间不存在液晶材料层,具有在光波波长为400纳米至850纳米的范围内获得五个共振模式,并且这五个共振模式的频率互不关联,每个模式可独立调控的功能。 |
地址 |
210093江苏省南京市汉口路22号 |