| 发明名称 |
Lithographischer Apparat. Beleuchtungssystem und optisches Element zur Rotation einer Intensitätsverteilung |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE602005007409(D1) |
申请公布日期 |
2008.07.24 |
| 申请号 |
DE200560007409T |
申请日期 |
2005.03.24 |
| 申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
MULDER, HEINE MELLE;BOTMA, HAKO |
| 分类号 |
G03F7/20;G02B19/00;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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