| 发明名称 | 处理室和处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是在不减小处理室内部尺寸的情况下，抑制外形尺寸的扩大，并减轻其重量。真空室(10)的本体(10a)的长边方向的侧壁(61a、61b)的壁厚L<SUB>1</SUB>形成为比侧壁(62a、62b)的壁厚L<SUB>2</SUB>薄，盖体(10b)的上部侧壁(63a、63b)的壁厚形成为比上部侧壁(64a、64b)的壁厚薄。在使用时，为了加固侧壁(61a、61b)和上部侧壁(64a、64b)的强度，外装可装卸的加固板(90a～90d)。 | ||
| 申请公布号 | CN100405535C | 申请公布日期 | 2008.07.23 |
| 申请号 | CN200510112936.4 | 申请日期 | 2005.10.14 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 天野健次 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种处理室，是容纳被处理体，在内部进行规定的处理，俯视图为矩形的处理室，其特征在于：在构成所述处理室的侧壁中，相对的两个侧壁的厚度形成为比另外两个侧壁的厚度薄，并具有对厚度薄的所述相对的两个侧壁进行加固的可装卸的加固部件。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||