真空蒸镀用校准装置

摘要

本发明的真空蒸镀用校准装置具有掩模保持架(7)、连接用板(12)、位置调整装置(13)、伸缩式筒状遮断构件(14)、及施力装置(15)；该掩模保持架(7)在保持于真空容器(3)内的基片(5)的下方通过悬挂构件(11)保持，该悬挂构件(11)插通到形成于作为容器的上壁面的安装用板(1a)的贯通孔(1b)；该连接用板(12)设于真空容器的外方，同时，连接于悬挂构件；该位置调整装置(13)使该连接用板移动，可调整蒸镀室(2)内的掩模(8)相对基片(5)的位置；该伸缩式筒状遮断构件(14)外嵌于悬挂构件，同时，设于安装用板的贯通孔(1b)的外周与连接用板间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置(15)发生与使筒状遮断构件的内侧处于真空状态从而对连接用板产生的推压力相反方向的力。

主权项

1.一种真空蒸镀用校准装置，相对保持于真空容器内的基片进行蒸镀用掩模的对位；其特征在于：具有掩模保持架、连接用板、位置调整装置、伸缩式筒状遮断构件及施力装置；该掩模保持架在保持于上述真空容器内的基片的下方通过悬挂构件保持，该悬挂构件插通到形成于该真空容器的壁体的贯通孔；该连接用板设于上述真空容器的外方，而且连接于上述悬挂构件；该位置调整装置可使该连接用板移动而调整保持于掩模保持架的真空容器内的掩模相对基片的位置；该伸缩式筒状遮断构件外嵌于上述悬挂构件，而且设于壁体的贯通孔的外周与上述连接用板之间，遮断真空侧与大气侧；该施力装置产生与因上述筒状遮断构件的内侧处于真空状态而对连接用板产生的推压力的方向相反的力。