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经营范围
发明名称
HAFNIUM SILICIDE TARGET FOR GATE OXIDE FILM FORMATION AND ITS PRODUCTION METHOD
摘要
申请公布号
EP1405932(B1)
申请公布日期
2008.07.09
申请号
EP20020733312
申请日期
2002.06.05
申请人
NIPPON MINING & METALS CO., LTD.
发明人
IRUMATA, SHUICHI;SUZUKI, RYO
分类号
C22C27/00;C23C14/34;C23C14/06;C23C14/08;H01L21/314;H01L21/316;H01L29/78
主分类号
C22C27/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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