内连线结构及其形成方法

摘要

一种内连线结构，其用以连接位于薄膜晶体管阵列基板非显像区的两隔离金属线。一第一金属线设置于一基板上，并以一第一绝缘层覆盖；将一第二金属线设置于该第一绝缘层之上，且由一第二绝缘层所覆盖；将一氧化铟锡接线设置于该第二绝缘层上，并将该第一与第二金属线相互电连接。一保护层设置于该第二绝缘层之上，并具有一开口于其中以暴露及围绕于该氧化铟锡接线。

主权项

1.一种内连线结构，其包括：一基板；多条第一金属线，设置于该基板上；一第一绝缘层，设置于该基板上，且覆盖于该第一金属线；多条第二金属线，设置于该第一绝缘层上；一第二绝缘层，覆盖于该第二金属线；多个氧化铟锡接线，各连接一对第一与第二金属线；以及保护层，设置于该第二绝缘层之上，并具有多个开口于其中，在每个开口中暴露及围绕一个氧化铟锡接线。