发明名称 制作被动元件的方法
摘要 本发明提供一种制作被动元件的方法。首先提供一基底,其上定义有一连接区、一电容区与一电感区。基底包含一第一金属层与一位于第一金属层上之绝缘层。之后,蚀刻绝缘层再蚀刻第一金属层,以同时于连接区中形成一外部连接垫,于电容区中形成一下电极,并保留位于下电极上方的绝缘层。接着沉积一介电层,再进行一铜双镶嵌制程,以于介电层中同时形成一电感结构与一电容结构之上电极。最后沉积一保护层,然后进行一蚀刻制程,以暴露出外部连接垫。
申请公布号 TW200828494 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW095148256 申请日期 2006.12.21
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 施泓林
分类号 H01L21/70(2006.01) 主分类号 H01L21/70(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号