发明名称 | 制作被动元件的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种制作被动元件的方法。首先提供一基底,其上定义有一连接区、一电容区与一电感区。基底包含一第一金属层与一位于第一金属层上之绝缘层。之后,蚀刻绝缘层再蚀刻第一金属层,以同时于连接区中形成一外部连接垫,于电容区中形成一下电极,并保留位于下电极上方的绝缘层。接着沉积一介电层,再进行一铜双镶嵌制程,以于介电层中同时形成一电感结构与一电容结构之上电极。最后沉积一保护层,然后进行一蚀刻制程,以暴露出外部连接垫。 | ||
申请公布号 | TW200828494 | 申请公布日期 | 2008.07.01 |
申请号 | TW095148256 | 申请日期 | 2006.12.21 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 施泓林 |
分类号 | H01L21/70(2006.01) | 主分类号 | H01L21/70(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 许锺迪 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |