| 发明名称 | 图案化磁记录介质及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供了一种图案化磁记录介质及其制造方法。所述图案化磁记录介质包括基底和按照预定的间隔设置的多个磁记录层，其中，所述磁记录层由包括Co、Pt和Ni的合金形成。具有所述磁记录层的图案化介质具有优良的读/写特性、高的抗腐蚀性和记录密度。 | ||
| 申请公布号 | CN101206871A | 申请公布日期 | 2008.06.25 |
| 申请号 | CN200710196197.0 | 申请日期 | 2007.11.29 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 李明馥;孙镇昇;林志庆 |
| 分类号 | G11B5/64(2006.01);G11B5/667(2006.01) | 主分类号 | G11B5/64(2006.01) |
| 代理机构 | 北京铭硕知识产权代理有限公司 | 代理人 | 韩明星;李友佳 |
| 主权项 | 1.一种图案化磁记录介质，包括：基底；多个磁记录层，按照一定的间隔设置在基底上，其中，所述磁记录层由包括Co、Pt和Ni的合金形成。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416 | ||