发明名称 SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
摘要 반도체 기판 상에 수퍼 접합 구조를 형성한 후 차아지 밸런스 (charge balance) 의 열화를 억제하고 우수한 내압 특성을 유지하기 위해서, 복수의 주상의 제 1 에피택셜층들을 기판 본체의 표면에 소정의 간격으로 각각 형성하고, 복수의 제 2 에피택셜층들을 복수의 제 1 에피택셜층들 사이의 트렌치에 각각 형성한다. 기판 본체의 표면에 평행한 표면의 제 1 에피택셜층에 포함된 도펀트의 농도 분포를 기판 본체의 표면에 평행한 표면의 제 2 에피택셜층에 포함된 도펀트의 농도 분포와 일치시키도록 구성된다.
申请公布号 KR100838146(B1) 申请公布日期 2008.06.13
申请号 KR20060043268 申请日期 2006.05.15
申请人 가부시키가이샤 사무코;가부시키가이샤 덴소 发明人 노가미 쇼우지;야마오카 도모노리;야마우치 소이치;야마구치 히토시
分类号 H01L21/20 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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