发明名称 |
掩膜及其制法、掩膜制造装置、发光材料的成膜方法 |
摘要 |
提供一种掩膜及其制造方法、制造装置、发光材料的成膜方法、电光学装置及电子仪器。本发明的掩膜:具备形成了开口的基体材料;形成有多个贯通孔,同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件;和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。 |
申请公布号 |
CN100393908C |
申请公布日期 |
2008.06.11 |
申请号 |
CN200410007838.X |
申请日期 |
2004.03.04 |
申请人 |
精工爱普生株式会社 |
发明人 |
中楯真 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01);C23C14/24(2006.01);H05B33/10(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1.一种掩膜,其中,具备:形成了开口的基体材料;形成多个贯通孔,同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件;和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子,上述隔离子,其由具有与所定间隔相同直径的多个球体构成,并与粘接剂一起配置在上述基体材料和上述掩膜构件之间的接合区域,上述球体,在保持其形状的状态下,按照所定的间隔,保持上述基体材料和上述掩膜构件。 |
地址 |
日本东京 |