| 发明名称 | 相位差层叠层体、光学元件及其热处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明的一种相位差层叠层体，其中含有衬底材料和在所述衬底材料上由具有向列相规律性或近晶相规律性或胆甾相规律性的聚合性液晶材料固化而成的相位差层，其特征在于：所述相位差层叠层体以预定温度进行热处理，如设所述热处理后的所述相位差层的相差值为Ra，对所述相位差层叠层体再次以所述热处理温度加热60分针后的所述相位差层的相差值为Rb，以(Ra-Rb)/Ra定义的所述相位差层的相差值减少率不大于5％。 | ||
| 申请公布号 | CN100394224C | 申请公布日期 | 2008.06.11 |
| 申请号 | CN200510004150.0 | 申请日期 | 2002.11.07 |
| 申请人 | 大日本印刷株式会社 | 发明人 | 鹿岛启二 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01);G02F1/133(2006.01) | 主分类号 | G02B5/30(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 叶恺东 |
| 主权项 | 1.一种相位差层叠层体，其中含有衬底材料和在所述衬底材料上由具有向列相规律性或近晶相规律性或胆甾相规律性的聚合性液晶材料固化而成的相位差层，其特征在于：所述相位差层叠层体以预定温度进行热处理，如设所述热处理后的所述相位差层的相差值为Ra，对所述相位差层叠层体再次以所述热处理温度加热60分钟后的所述相位差层的相差值为Rb，以(Ra-Rb)/Ra定义的所述相位差层的相差值减少率不大于5％。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||