发明名称 | 处理控制系统用的动态目标设定方法及装置 | ||
摘要 | 本发明揭示一种处理控制系统用的动态目标设定方法及装置。于一批工件中的第一工件上基于一处理目标设定施行一处理步骤。该处理目标设定包含与该第一工件的目标特性有关的至少一参数。取得与该第一工件的处理有关的制造数据。该制造数据包含有关该已处理第一工件的测量数据及有关处理工具(810)的工具状态的工具状态数据的至少一数据。在处理该批次中的第二工件期间,至少部分取得有关该已处理第一工件的电子数据。基于该电子数据及该制造数据的相互关系动态地调整该处理目标设定。 | ||
申请公布号 | CN100392840C | 申请公布日期 | 2008.06.04 |
申请号 | CN03818137.1 | 申请日期 | 2003.07.09 |
申请人 | 先进微装置公司 | 发明人 | A·J·帕萨丁;T·J·桑德曼;J·王 |
分类号 | H01L21/66(2006.01) | 主分类号 | H01L21/66(2006.01) |
代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊;张连军 |
主权项 | 1.一种方法,其包含:于一批工件中的一工件上基于处理目标设定施行一处理步骤,该处理目标设定包含与该工件的目标特性有关的至少一参数;取得与该工件处理有关的制造数据,该制造数据包含有关已处理的工件的测量数据及有关处理工具(810)的工具状态的工具状态数据的至少一项数据;在该批工件中的另一工件于处理控制的期间,于一时间周期至少部分取得有关该已处理的工件的电子数据;及基于该电子数据及该制造数据的相互关系动态地调整该处理目标设定。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |