发明名称 |
建立光学近接修正模型的方法 |
摘要 |
一种建立光学近接修正模型的方法,包括下列步骤:从工艺中采集光学近接修正数据至数据库中;确定初始值X<sub>0</sub>、结束值X<sub>n</sub>和固定步长h;根据初始值X<sub>0</sub>计算初始值斜率<img file="200610118821.0_ab_0.GIF" wi="60" he="49" />;根据初始值斜率<img file="200610118821.0_ab_1.GIF" wi="60" he="49" />和固定步长h得出初始优化步长Y<sub>0</sub>;根据初始值X<sub>0</sub>和初始优化步长Y<sub>0</sub>得出第一相加值X<sub>1</sub>;重复上述步骤,计算得出第二相加值X<sub>2</sub>、第三相加值X<sub>3</sub>……至结束值X<sub>n</sub>;将初始值X<sub>0</sub>、第一相加值X<sub>1</sub>、第二相加值X<sub>2</sub>、第三相加值X<sub>3</sub>、……第n-1相加值和结束值X<sub>n</sub>进行拟合。经过上述步骤,由于步长值可根据计算出的斜率来调节,这样会实现调节步数减少,模拟时间变短。 |
申请公布号 |
CN101192009A |
申请公布日期 |
2008.06.04 |
申请号 |
CN200610118821.0 |
申请日期 |
2006.11.28 |
申请人 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人 |
刘庆炜;魏芳 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人 |
逯长明 |
主权项 |
1.一种建立光学近接修正模型的方法,其特征在于,包括下列步骤:从工艺中采集光学近接修正数据至数据库中;确定初始值X0、结束值XN和固定步长h;根据初始值X0计算初始值斜率<math><mrow><mfrac><mrow><mo>∂</mo><mi>F</mi></mrow><mrow><mo>∂</mo><mi>X</mi></mrow></mfrac><msub><mo>|</mo><mrow><mi>X</mi><mo>=</mo><msub><mi>X</mi><mn>0</mn></msub></mrow></msub><mo>;</mo></mrow></math> 根据初始值斜率<math><mrow><mfrac><mrow><mo>∂</mo><mi>F</mi></mrow><mrow><mo>∂</mo><mi>X</mi></mrow></mfrac><msub><mo>|</mo><mrow><mi>X</mi><mo>=</mo><msub><mi>X</mi><mn>0</mn></msub></mrow></msub></mrow></math>和固定步长h得出初始优化步长Y0;根据初始值X0和初始优化步长Y0得出第一相加值X1;重复上述步骤,计算得出第二相加值X2、第三相加值X3、......第n-1相加值至结束值Xn;将初始值X0、第一相加值X1、第二相加值X2、第三相加值X3、......第n-1相加值和结束值Xn进行拟合。 |
地址 |
201203上海市浦东新区张江路18号 |