基板处理装置以及清洗方法

摘要

本发明提供一种基板处理装置以及清洗方法，通过旋转杯以规定的旋转速度旋转，储存在储存槽中的清洗液在离心力的作用下向外侧流动，通过该流动的力，清洗液从孔中向上方喷出而飞散。由于孔是倾斜地形成的，所以清洗液的喷出方向为该倾斜的方向。因此，清洗液能够遍及到盖体上基板外侧附近的区域(符号M所示的虚线右侧的区域)。

主权项

1.一种基板处理装置，其特征是，包括：保持基板可旋转的保持部件；具有放入和取出基板的开口部，收放由上述保持部件保持的基板，同时可与上述保持部件同步地旋转的容器；可装卸地设置在上述开口部上，开闭上述容器的盖体；安装在上述容器上，同时设置在上述保持部件周围的至少一部分上，在内部至少储存清洗上述盖体的清洗液，具有上述储存的清洗液的喷出方向与上述容器的旋转的旋转轴方向相比朝向旋转中心一侧地形成的喷出部的储存槽；使上述容器旋转，使储存在上述储存槽中的清洗液在其旋转的离心力的作用下朝向上述盖体飞散的旋转驱动部。