| 摘要 |
本发明的目的是提供一种:可防止隔热层于连续成形中的形状变化,而获得高精度之转印性的光学元件成形用模具的制造方法。本发明之光学元件成形用模具10的制造方法,是用来制造具有:母材11,该母材11具有成形基面;及披覆层12-15,该披覆层12-15是设于母材的成形基面上,且披覆层12-15的表面中,母材之成形基面的上方部分为成形面之光学元件成形用模具的方法,其特征为具有:披覆步骤,该披覆步骤是在母材的成形基面上形成披覆层;和加压步骤,该加压步骤是对披覆层的表面加压;及精密加工步骤,该精密加工步骤在加压步骤后,对披覆层的表面实施精密加工来作为成形面。 |
