发明名称 METHOD AND ARRANGEMENT FOR HEAT TREATMENT OF SUBSTRATES
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum thermischen Behandeln von Substraten, sowie eine Anordnung zur Durchführung des Verfahrens. Die Aufgabe besteht darin, ein Verfahren und eine Anordnung zur thermischen Behandlung von Substraten zu schaffen, das kontinuierlich einstellbare Abkühlraten über einen weiten Temperaturbereich bei gleichzeitig weitgehend homogener Temperaturverteilung über die Fläche der Heiz/Kühlplatte ermöglicht. Das wird dadurch erreicht, dass innerhalb der Kühl/Heizplatte (1) eine Vielzahl von Kühl/Heizrohren (5) parallel zueinander verlaufend angeordnet sind, wobei jedes Kühl/Heizrohr (5) aus einem Außenrohr (9), einem durchströmbaren Innenrohr (8) und einem durchströmbaren Zwischenraum (10) dazwischen besteht und dass jedes Innenrohr (8) mit einer Zuführung für Wasser und jeder Zwischenraum (10) mit einer Zuführung für Luft verbunden ist wobei Wasser und Luft gleichzeitig durch die Kühl/Heizplatte geleitet werden.</p>
申请公布号 WO2008059049(A1) 申请公布日期 2008.05.22
申请号 WO2007EP62448 申请日期 2007.11.16
申请人 CENTROTHERM THERMAL SOLUTIONS GMBH + CO. KG;HARTUNG, ROBERT MICHAEL;VOELLER, HANS ULRICH 发明人 HARTUNG, ROBERT MICHAEL;VOELLER, HANS ULRICH
分类号 H01L21/687;H01L21/00 主分类号 H01L21/687
代理机构 代理人
主权项
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