发明名称 |
含有四芳基硼酸盐的可在印刷机上显影的可成像元件 |
摘要 |
本发明提供一种包括平版印刷基底和布置在基底上的可成像层的可成像元件。该可成像层包括可自由基聚合的组分、引发剂体系和聚合物粘合剂。该可成像元件进一步包括四芳基硼酸盐。四芳基硼酸盐的存在可提供改善的成像速度,并由于可成像层和基底之间更好的粘结而可以提高印刷寿命。四芳基硼酸盐可存在于可成像层、中间层或基底和可成像层之间的隔离层中。该可成像元件可以不经单独的显影步骤成像和安装在印刷机上。 |
申请公布号 |
CN101185029A |
申请公布日期 |
2008.05.21 |
申请号 |
CN200680018432.9 |
申请日期 |
2006.05.15 |
申请人 |
伊斯曼柯达公司 |
发明人 |
E·奈特;P·R·韦斯特 |
分类号 |
G03F7/085(2006.01);G03F7/11(2006.01);B41C1/10(2006.01);B41M5/40(2006.01);G03F7/033(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/085(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
周铁;韦欣华 |
主权项 |
1.一种可成像元件,该可成像元件包含:平版印刷基底;和布置在基底上的可成像层,该可成像层包含:a)可自由基聚合的组分;b)在暴露于成像辐射时能够产生足以引发聚合反应的自由基的引发剂体系;和c)聚合物粘合剂,该聚合物粘合剂具有疏水主链并包括:i)具有与疏水主链直接键接的氰基侧基的结构单元,和ii)具有包括亲水聚环氧烷链段的侧基的结构单元;其中该可成像元件进一步包含四芳基硼酸盐。 |
地址 |
美国纽约州 |