发明名称 |
光学补偿片的制造方法以及光学补偿片 |
摘要 |
本发明提供一种可以防止膜剥离的光学补偿片的制造方法以及光学补偿片。所述光学补偿片是通过对网状的薄片(10)进行皂化处理,在经皂化处理的部分(12)上形成取向膜层(14),进而形成液晶层(16)而形成。皂化处理中碱溶液的涂敷宽度(L1)设定为大于取向膜层(14)的涂敷宽度(L2),在经过皂化处理的部分(12)内涂敷取向膜层(14)。此外,液晶层(16)的涂敷宽度(L3)设定为大于取向膜层(14)的涂敷宽度(L2),通过液晶层(16)覆盖取向膜层(14)。 |
申请公布号 |
CN100389354C |
申请公布日期 |
2008.05.21 |
申请号 |
CN200510062428.X |
申请日期 |
2005.03.28 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
小林照夫 |
分类号 |
G02F1/1337(2006.01);G02F1/1335(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1337(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
朱丹 |
主权项 |
1.一种光学补偿片的制造方法,具有下述的工序:在长条状支撑体上涂敷碱溶液之后再洗脱碱溶液的皂化处理工序、在使前述长条状支撑体移动的同时在该支撑体的表面上涂敷取向膜层的取向膜层涂敷工序、对该取向膜层的表面进行研磨处理的研磨处理工序和在该经研磨处理的取向膜层上涂敷液晶层的液晶层涂敷工序,其特征在于:在前述支撑体的单面上涂敷前述取向膜层,并且在形成有该取向膜层的前述支撑体的单面上,通过以比前述取向膜层宽的宽度涂敷前述液晶层,而以前述液晶层覆盖前述取向膜层。 |
地址 |
日本国东京都 |