发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 在一基板之顶表面上之复数个晶粒的浸没微影成像过程中,该基板应在投影系统下采取一路径。
申请公布号 TW200821769 申请公布日期 2008.05.16
申请号 TW096134261 申请日期 2007.09.13
申请人 ASML公司 发明人 包伯 史崔弗科;尤瑞 乔汉那 劳瑞提斯 玛利亚 凡 多姆伦;YOURI JOHANNES LAURENTIUS MARIA;理查 莫尔曼;席德瑞克 迪赛尔 高斯达
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰