发明名称 浸润微影设备与浸润曝光方法
摘要 本发明之实施例揭露一种使用一密封之晶圆底部的浸润微影系统与方法。在一实施例中,一种浸润微影设备包括:一镜头组(lens assembly),包括一影像镜头以及一晶圆基座;其中,该晶圆基座用于将晶圆保持于该镜头组下方,且该晶圆基座包括一密封环,而该密封环用于密封介于保持在该晶圆基座上之一晶圆之一底部边缘与该晶圆基座间之一间隙。此浸润微影设备更包括:一流体槽,用于保持浸润流体,其中流体槽包含该晶圆基座以使保持在该晶圆基座上之该晶圆完全浸润于该浸润流体中;一外盖,置于该流体槽之至少一个部份,用以在该流体槽内提供一个温度受到控制且富含流体的环境;以及至少一个流动方向控制流体入口,环绕该影像镜头,用于导引新鲜浸润流体永远流过位于该晶圆与该镜头之最后表面间的区域。
申请公布号 TW200821767 申请公布日期 2008.05.16
申请号 TW096133359 申请日期 2007.09.07
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 林本坚;张庆裕
分类号 G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行六路8号