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发明名称 MICROSTRUCTURE POUR LA FORMATION D'UN SUBSTRAT EN SILICIUM ET GERMANIUM SUR ISOLANT ET DE TYPE Si1-xGex
摘要
申请公布号 FR2898214(B1) 申请公布日期 2008.05.16
申请号 FR20060001851 申请日期 2006.03.01
申请人 COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ETABLISSEMENT PUBLIC A CARACTERE INDUSTRIEL ET COMMERCIAL 发明人 DAMLENCOURT JEAN FRANCOIS;COSTA REMI
分类号 H01L21/20;H01L21/762 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
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