发明名称 |
薄膜图案层及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及一种薄膜图案层,其包括:一个基板,形成在基板上的多个挡墙,该多个挡墙限定多个收容空间,该收容空间呈行列状排列,及多个形成在收容空间内的薄膜层,其中,每行的收容空间的容积大小分布是无规律的及每行的多个薄膜层的厚度分布是无规律的。所述的薄膜图案层通过每行收容空间的容积大小无规律分布,使该行相同薄膜的薄膜层厚度均匀性被打乱,变得不均匀,从而使光透过其后所产生的条纹缺陷减少或消除。本发明还提供一种薄膜图案层的制造方法。 |
申请公布号 |
CN101178455A |
申请公布日期 |
2008.05.14 |
申请号 |
CN200610138233.3 |
申请日期 |
2006.11.06 |
申请人 |
ICF科技有限公司 |
发明人 |
周景瑜 |
分类号 |
G02B5/23(2006.01);G03F7/00(2006.01);B41J2/01(2006.01);H01L51/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B5/23(2006.01) |
代理机构 |
北京申翔知识产权代理有限公司 |
代理人 |
周春发 |
主权项 |
1.一种薄膜图案层,包括:一个基板;形成在基板上的多个挡墙,该多个挡墙限定多个收容空间,该收容空间呈行列状排列;及多个形成在收容空间内的薄膜层;其特征在于:每行中的收容空间的容积大小分布是无规律的,及每行中的多个薄膜层的厚度分布是无规律的。 |
地址 |
美国加州95054圣塔克来拉市3350史考特大道33号 |